光譜學(xué)與光譜分析雜志簡(jiǎn)介
《光譜學(xué)與光譜分析》(月刊)創(chuàng)刊于1981年,是由中國(guó)科學(xué)技術(shù)協(xié)會(huì)主管、中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)主辦的學(xué)術(shù)性刊物。
《光譜學(xué)與光譜分析》主要刊登:激光光譜測(cè)量、紅外、拉曼、紫外、可見光譜、發(fā)射光譜、吸收光譜、激光顯微光譜、光譜化學(xué)分析、國(guó)內(nèi)外光譜化學(xué)分析新進(jìn)展、開創(chuàng)性研究論文、學(xué)科發(fā)展前沿和新進(jìn)展、綜合評(píng)述、問題討論、書刊評(píng)述。讀者群體:適用于冶金、地質(zhì)、機(jī)械、國(guó)防、天文等各領(lǐng)域的科學(xué)研究單位、高等院校、從事光譜學(xué)與光譜分析的研究人員、高校師生、管理干部。根據(jù)國(guó)家科技部信息研究所發(fā)布信息,中國(guó)科技期刊物理類影響因子及引文量《光譜學(xué)與光譜分析》都居前幾位。在《光譜學(xué)與光譜分析》編委會(huì)中有12位院士,所有編委都是學(xué)有所長(zhǎng)的知名專家、學(xué)者。《光譜學(xué)與光譜分析》的主編為黃本立院士。獲獎(jiǎng)情況:1992年北京出版局編輯質(zhì)量獎(jiǎng);1996年中國(guó)科協(xié)科技期刊獎(jiǎng);1997-2000獲中國(guó)科協(xié)擇優(yōu)支持基礎(chǔ)性高科技學(xué)術(shù)期刊獎(jiǎng);2001年獲中國(guó)光學(xué)學(xué)會(huì)期刊獎(jiǎng)。
光譜學(xué)與光譜分析雜志欄目設(shè)置
原創(chuàng)性論文、研究簡(jiǎn)報(bào)、動(dòng)態(tài)進(jìn)展、綜合評(píng)述、新技術(shù)、新儀器、邊緣學(xué)科介紹、新書評(píng)介
光譜學(xué)與光譜分析雜志榮譽(yù)
知網(wǎng)收錄(中)維普收錄(中)Pж(AJ) 文摘雜志(俄)EI 工程索引(美)萬方收錄(中)JST 日本科學(xué)技術(shù)振興機(jī)構(gòu)數(shù)據(jù)庫(日)國(guó)家圖書館館藏北大核心期刊(中國(guó)人文社會(huì)科學(xué)核心期刊)上海圖書館館藏CA 化學(xué)文摘(美)統(tǒng)計(jì)源核心期刊(中國(guó)科技論文核心期刊)SCI 科學(xué)引文索引(美)SA 科學(xué)文摘(英)文摘與引文數(shù)據(jù)庫CSCD 中國(guó)科學(xué)引文數(shù)據(jù)庫來源期刊(含擴(kuò)展版)中國(guó)期刊全文數(shù)據(jù)庫(CJFD)中國(guó)科技期刊核心期刊全國(guó)中文核心期刊中國(guó)核心期刊遴選數(shù)據(jù)庫
光譜學(xué)與光譜分析雜志影響因子
(2019)復(fù)合影響因子:1.369
(2019)綜合影響因子:0.952
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